| 透射电镜用薄膜样品的制备方法 | |
| 中国科学院金属研究所 | |
| 2008 | |
| 关键词 | 薄膜 透射电镜 磁控溅射 |
| 中文摘要 | 本发明公开了一种透射电镜用薄膜样品的制备方法，具体步骤为：1)利用磁控溅射方法镀制金属或合金膜，磁控溅射以合金靶为负极，衬底为正极，背底真空度2.0～8.0×10^(-5)Pa；气氛为Ar气氛，真空度6.5～7.5×10^(-1)Pa；电流0.5～2A；电压100～300V；2)在金属或合金膜上冲出圆片；3)将圆片进行双喷减薄或者离子减薄制得电镜观察用的样品。本发明采用磁控溅射的方法，可以获得均匀、致密、易剥离的金属或合金膜，衬底上镀膜的厚度在5～9μm之间，可以直接将磁控溅射镀膜与双喷减薄或者离子减薄相结合制得电镜观察用的样品，解决了电镜用薄膜样品在传统机械减薄过程中容易受到污染、破碎和引入假象的问题。200410020531.3 |
| 语种 | 中文 |
| 内容类型 | 成果 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/68982]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 中国科学院金属研究所. 透射电镜用薄膜样品的制备方法. . 2008. |
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