热解石墨涂层外延基座 | |
赵凤鸣 ; 姜维新 ; 王勇 ; 刘玉环 | |
1985 | |
关键词 | 外延片 气相外延 石墨 外延基座 涂层 热解石墨 |
中文摘要 | 该项成果用于硅气相外延,制备高质量的外延片。热解石墨外延基座的主要技术指标如下:电性能好,如金属一样的导电,适于感应加热,“α”向电阻率20μΩ·cm,“c”向电阻率100000μΩ·cm;在基座的表面方向上有近于金属的导热性良好的抗热震性;气密性好,化学稳定性高;纯度高,杂质含量在ppm数量级。该项成果若在全国推广,经济效益很大。 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 成果 |
源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/68920] |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵凤鸣,姜维新,王勇,等. 热解石墨涂层外延基座. . 1985. |
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