ICP刻蚀硅形貌控制研究 | |
刘欢; 周震; 刘惠兰; 冯丽爽; 王坤博 | |
刊名 | 传感技术学报
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2011 | |
卷号 | 24页码:200-203 |
关键词 | ICP刻蚀 硅 形貌控制 bowing效应 工艺参数 |
ISSN号 | 1004-1699 |
DOI | 10.3969/j.issn.1004-1699.2011.02.009 |
URL标识 | 查看原文 |
收录类别 | PKUISTICCSCD |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6587613 |
专题 | 北京航空航天大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘欢,周震,刘惠兰,等. ICP刻蚀硅形貌控制研究[J]. 传感技术学报,2011,24:200-203. |
APA | 刘欢,周震,刘惠兰,冯丽爽,&王坤博.(2011).ICP刻蚀硅形貌控制研究.传感技术学报,24,200-203. |
MLA | 刘欢,et al."ICP刻蚀硅形貌控制研究".传感技术学报 24(2011):200-203. |
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