一种耐磨减磨层的复合镀工艺 | |
姜晓霞, 赵洪星 and 田云川 | |
1992-06-10 | |
专利国别 | 中国 |
专利类型 | 发明专利 |
权利人 | 中国科学院金属研究所 |
中文摘要 | 一种耐磨减磨层的复合镀工艺,其主要特征是所述的复合镀系指在Ni-P基体中同时加入SiC和石墨形成四元系的Ni-P/石墨-SiC或Ni-P/SiC-石墨镀层。由本工艺获得镀层硬度HV600—650kg/mm2,耐磨性比渗碳淬火好,和硬铬镀层相近,镀层无剥落现象,结合力良好。本发明具有设备简单、工艺稳定、成本低、无污染等优点。 |
公开日期 | 1992-06-10 |
语种 | 中文 |
专利申请号 | CN1061811 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/67330] ![]() |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 姜晓霞, 赵洪星 and 田云川. 一种耐磨减磨层的复合镀工艺. 1992-06-10. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论