| 脉冲磁控溅射沉积微晶硅薄膜工艺研究 | |
| 梁凤敏，周灵平，彭坤，朱家俊，李德意 | |
| 刊名 | 材料导报
 |
| 2012 | |
| 卷号 | 第26卷 第22期页码:47-50 |
| 关键词 | 脉冲磁控溅射 微晶硅薄膜 结晶性能 沉积速率 |
| ISSN号 | 1005-023X |
| URL标识 | 查看原文 |
| 公开日期 | [db:dc_date_available] |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6503102 |
| 专题 | 湖南大学 |
| 作者单位 | 湖南大学材料科学与工程学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 梁凤敏，周灵平，彭坤，朱家俊，李德意. 脉冲磁控溅射沉积微晶硅薄膜工艺研究[J]. 材料导报,2012,第26卷 第22期:47-50. |
| APA | 梁凤敏，周灵平，彭坤，朱家俊，李德意.(2012).脉冲磁控溅射沉积微晶硅薄膜工艺研究.材料导报,第26卷 第22期,47-50. |
| MLA | 梁凤敏，周灵平，彭坤，朱家俊，李德意."脉冲磁控溅射沉积微晶硅薄膜工艺研究".材料导报 第26卷 第22期(2012):47-50. |
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