| 旋转磁控电弧离子镀弧源 | |
| 闻立时, 郎文昌, 孙超, 宫骏, 赵彦辉 and 肖金泉 | |
| 2009-02-11 | |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 权利人 | 中国科学院金属研究所 |
| 中文摘要 | 本发明涉及薄膜制备领域,具体地说是一种利用旋转磁场控制弧斑运动的旋 转磁控电弧离子镀弧源。在靶材周围空间设有旋转磁场发生装置,旋转磁场发生 装置为采用相差一定均匀角度、相互连接在一起的几个磁极均匀布在同一圆周上, 磁极数量为4n或者3n,n≥1,形成一个整体的电磁回路骨架,励磁线圈套在磁 极上或者嵌在相邻磁极之间的槽隙内,采用相位差90°的两相或者相位差120° 的三相励磁顺序供电,在磁极包围的空间内产生可调旋转磁场。本发明通过可调 速调幅的旋转磁场控制弧斑的运动,可以改善弧斑的放电形式和工作稳定性,提 高靶材刻蚀均匀性和靶材利用率,减少... |
| 公开日期 | 2009-02-11 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN101363115 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/66408]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 闻立时, 郎文昌, 孙超, 宫骏, 赵彦辉 and 肖金泉. 旋转磁控电弧离子镀弧源. 2009-02-11. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论