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	磁控溅射硅基AIN薄膜的氮-氩气体流量比研究
	王代强; 杨发顺; 徐希嫔; 陈雨青; 刘桥
	2011
期号	2
关键词	流量比 AIN薄膜 直流磁控反应溅射 元素种类与含量
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6473398
专题	贵州大学
作者单位	1.[1]贵州大学 2.[2]贵阳学院
推荐引用方式 GB/T 7714	王代强,杨发顺,徐希嫔,等. 磁控溅射硅基AIN薄膜的氮-氩气体流量比研究[J],2011(2).
APA	王代强,杨发顺,徐希嫔,陈雨青,&刘桥.(2011).磁控溅射硅基AIN薄膜的氮-氩气体流量比研究.(2).
MLA	王代强,et al."磁控溅射硅基AIN薄膜的氮-氩气体流量比研究"..2(2011).

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