磁控溅射硅基AIN薄膜的氮-氩气体流量比研究 | |
王代强; 杨发顺; 徐希嫔; 陈雨青; 刘桥 | |
2011 | |
期号 | 2 |
关键词 | 流量比 AIN薄膜 直流磁控反应溅射 元素种类与含量 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6473398 |
专题 | 贵州大学 |
作者单位 | 1.[1]贵州大学 2.[2]贵阳学院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王代强,杨发顺,徐希嫔,等. 磁控溅射硅基AIN薄膜的氮-氩气体流量比研究[J],2011(2). |
APA | 王代强,杨发顺,徐希嫔,陈雨青,&刘桥.(2011).磁控溅射硅基AIN薄膜的氮-氩气体流量比研究.(2). |
MLA | 王代强,et al."磁控溅射硅基AIN薄膜的氮-氩气体流量比研究"..2(2011). |
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