GaAs(110)衬底GaN薄膜的制备与特性研究 | |
杨莺歌 [1]; 马洪磊 [1]; 郝晓涛 [1]; 马瑾 [1]; 薛成山 [2]; 庄惠照 [2] | |
2002 | |
会议日期 | 2002年10月01日 |
会议地点 | 厦门 |
关键词 | 光致发光 退火反应法 薄膜制备 氮化镓薄膜 薄膜特性 |
会议录 | 第十二届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议论文集 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 会议论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6415113 |
专题 | 山东师范大学 |
作者单位 | 1.[1]山东大学物理与微电子学院 2.[2]山东师范大学半导体研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 杨莺歌 [1],马洪磊 [1],郝晓涛 [1],等. GaAs(110)衬底GaN薄膜的制备与特性研究[C]. 见:. 厦门. 2002年10月01日. |
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