石英衬底上磁控溅射SiG膜退火形成SiC纳米线 | |
安霞; 庄惠照; 等 | |
2002 | |
卷号 | 39期号:1页码:37-39 |
关键词 | 磁控溅射 氮退火 纳米线 薄膜 石英衬底 碳化碳 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6411122 |
专题 | 山东师范大学 |
作者单位 | 山东师范大学半导体研究所,山东济南250014 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 安霞,庄惠照,等. 石英衬底上磁控溅射SiG膜退火形成SiC纳米线[J],2002,39(1):37-39. |
APA | 安霞,庄惠照,&等.(2002).石英衬底上磁控溅射SiG膜退火形成SiC纳米线.,39(1),37-39. |
MLA | 安霞,et al."石英衬底上磁控溅射SiG膜退火形成SiC纳米线".39.1(2002):37-39. |
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