真空磁过滤电弧离子镀法制备类金刚石涂层方法及性能研究

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	真空磁过滤电弧离子镀法制备类金刚石涂层方法及性能研究
	王秀兰; 刘文言; 刘洪源; 张泰华
刊名	宇航材料工艺
	2002-12-30
卷号	32 期号:6 页码:52-54
关键词	真空磁过滤电弧离子镀类金刚石耐磨性涂层制备薄膜
ISSN号	1007-2330
通讯作者	王秀兰
中文摘要	采用真空磁过滤电弧离子镀方法，在GT35基体上沉积类金刚石膜。通过对清洗工艺及弧电流、工件所加负偏压、沉积温度等参数的研究，制定出了合理的工艺路线，并对这种膜层进行了X-射线光电子谱（XPS）分析，利用干涉仪、纳米硬度计对膜层的粗糙度、纳米硬度作了进一步检测。结果表明，采用此种方法制备的类金刚石膜层，SP^3含量约为40．1％；组织致密，无大的颗粒；镀膜后的粗糙度可以达到0．015μm；纳米硬度约为55GPa。并将膜层与TiN膜层组成摩擦副，进行了耐磨性试验。结果表明膜层的耐磨性较好。
收录类别	CSCD
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:1120545
公开日期	2009-08-03 ; 2010-08-20
内容类型	期刊论文
源URL	[http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/42132]
专题	力学研究所_力学所知识产出(1956-2008)
推荐引用方式 GB/T 7714	王秀兰,刘文言,刘洪源,等. 真空磁过滤电弧离子镀法制备类金刚石涂层方法及性能研究[J]. 宇航材料工艺,2002,32(6):52-54.
APA	王秀兰,刘文言,刘洪源,&张泰华.(2002).真空磁过滤电弧离子镀法制备类金刚石涂层方法及性能研究.宇航材料工艺,32(6),52-54.
MLA	王秀兰,et al."真空磁过滤电弧离子镀法制备类金刚石涂层方法及性能研究".宇航材料工艺 32.6(2002):52-54.