The influence of pressure on the growth of InAlN/AlN/GaN heterostructure | |
Bi, Y ; Wang, X.L ; Wang, C.M ; Li, J.P ; Liu, H.X ; Chen, H ; Xiao, H.L ; Feng, C ; Jiang, L.J | |
刊名 | epj applied physics |
2012 | |
卷号 | 57期号:3页码:30103 |
学科主题 | 半导体材料 |
收录类别 | EI |
语种 | 英语 |
公开日期 | 2013-05-07 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23996] |
专题 | 半导体研究所_中科院半导体材料科学重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Bi, Y,Wang, X.L,Wang, C.M,et al. The influence of pressure on the growth of InAlN/AlN/GaN heterostructure[J]. epj applied physics,2012,57(3):30103. |
APA | Bi, Y.,Wang, X.L.,Wang, C.M.,Li, J.P.,Liu, H.X.,...&Jiang, L.J.(2012).The influence of pressure on the growth of InAlN/AlN/GaN heterostructure.epj applied physics,57(3),30103. |
MLA | Bi, Y,et al."The influence of pressure on the growth of InAlN/AlN/GaN heterostructure".epj applied physics 57.3(2012):30103. |
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