一种具有周期性纳米结构的高分子膜的制备方法及所用模板
李景烨
专利国别中国
专利类型发明专利
中文摘要本发明公开了一种周期性纳米结构高分子膜的制备方法,其包括下述步骤:(1)将高分子材料溶解在有机溶剂中,加热溶解得到铸模液;(2)将铸模液滴加到模板上,通过旋涂法在模板上制备得到湿态高分子膜;(3)将湿态高分子膜中的有机溶剂除去,至高分子膜为恒重后得到干态高分子膜;(4)在去离子水中通过超声震荡将干态高分子膜从模板上脱除,即得。本发明还提供了所述的周期性纳米结构高分子膜的制备方法中使用的模板。本发明的周期性纳米结构高分子膜的制备方法重复性好、制备速度快、简单易行且经济。
学科主题C08J5/18
公开日期2013-01-23
语种中文
专利申请号CN200910049959
专利代理薛琦 ; 朱水平
内容类型专利
源URL[http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/10538]  
专题上海应用物理研究所_中科院上海应用物理研究所2004-2010年
推荐引用方式
GB/T 7714
李景烨. 一种具有周期性纳米结构的高分子膜的制备方法及所用模板.
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