Characterization of NbAlO dielectric film deposited on InP

	Characterization of NbAlO dielectric film deposited on InP
	He, DW ; Cheng, XH（重点实验室） ; Xu, DW ; Wang, ZJ ; Yu, YH（重点实验室） ; Sun, QQ ; Zhang, DW
刊名	JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
	2011
卷号	29 期号:1 页码:01A803
关键词	Engineering Physics Electrical & Electronic Nanoscience & Nanotechnology Applied
ISSN号	1071-1023
学科主题	Engineering; Science & Technology - Other Topics; Physics
收录类别	SCI
原文出处	10.1116/1.3532387
语种	英语
公开日期	2013-05-10
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/115121]
专题	上海微系统与信息技术研究所_信息功能材料国家重点实验室2008-2012_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	He, DW,Cheng, XH,Xu, DW,et al. Characterization of NbAlO dielectric film deposited on InP[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B,2011,29(1):01A803.
APA	He, DW.,Cheng, XH.,Xu, DW.,Wang, ZJ.,Yu, YH.,...&Zhang, DW.(2011).Characterization of NbAlO dielectric film deposited on InP.JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B,29(1),01A803.
MLA	He, DW,et al."Characterization of NbAlO dielectric film deposited on InP".JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 29.1(2011):01A803.