铁靶的制备

	铁靶的制备
	吴解征 ; 严赐福
刊名	核技术
	1983
期号	02
中文摘要	<正> 为了制得比较厚的、均匀的铁靶;我们利用了电阻加热法和蒸发角度小、蒸发较为集中的V形坩埚(0.2×7×74mm厚的钨片制成)。接收底板装在转动的托盘上。在底板上开有31个小孔;放有31只铜碗;每只碗内放一块铝衬底;并压上一块“多孔槽区块”;防止铝衬底因转动而飞出。同时;对450-B高真空镀膜设备的电极进行了改装;使得收集衬底和蒸发坩埚之间的距离为75mm。铁的蒸发比较容易;控制蒸发电流和时间;大体上能够控制薄膜的厚度。铁的装量低于钨坩埚重量的35％时;得到的铁靶比较理想。为了使铁膜牢固地附着在铝衬底上;铝衬底的清洗非常重要。
收录类别	CNKI
语种	中文
公开日期	2013-01-23
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/12052]
专题	上海应用物理研究所_中科院上海原子核所2003年前
推荐引用方式 GB/T 7714	吴解征,严赐福. 铁靶的制备[J]. 核技术,1983(02).
APA	吴解征,&严赐福.(1983).铁靶的制备.核技术(02).
MLA	吴解征,et al."铁靶的制备".核技术 .02(1983).