离子轰击产生湍层氮化硼 | |
王震遐 ; 王玟珉 ; 阮美玲 ; 许浔江 | |
刊名 | 高能物理与核物理 |
2000-11-15 | |
期号 | 11 |
中文摘要 | 用高分辨率透射电子显微镜检查了N+2离子轰击后的氮化硼样品.发现在片状六方形氮化硼sp2层的弯折区;有0.35mm晶面间距的湍层氮化硼形成.虽然其形成机制尚不清楚;但是基于束流-固体相互作用观点的讨论可能是了解湍层氮化硼结构生长过程的关键所在. |
收录类别 | CNKI |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2013-01-23 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/11749] |
专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海原子核所2003年前 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王震遐,王玟珉,阮美玲,等. 离子轰击产生湍层氮化硼[J]. 高能物理与核物理,2000(11). |
APA | 王震遐,王玟珉,阮美玲,&许浔江.(2000).离子轰击产生湍层氮化硼.高能物理与核物理(11). |
MLA | 王震遐,et al."离子轰击产生湍层氮化硼".高能物理与核物理 .11(2000). |
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