B掺杂对Ni原子溅射产额的影响
王震遐 ; 章骥平 ; 潘冀生 ; 陶振兰 ; 张慧明 ; 张伟坪 ; 卢兆伦
刊名物理学报
1991-10-28
期号10
中文摘要用卢瑟福背散射技术研究了Ni基体中掺B对离子溅射产额的影响。实验结果发现掺B后Ni原子的溅射产额Y比未掺B的纯Ni样品有明显减少。虽然这种溅射产额差值Y与Painter和Averill(P-A)理论模型分析结果定性符合;但实验产额减小值却大于P-A模型的预言。为解释实验结果;注意到溅射靶点表面形貌对减小或增大溅射产额的明显作用;认为实际的产额减小很可能是由于结合能和表面形貌等因素的协同效应。
收录类别CNKI
语种中文
公开日期2013-01-23
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/10876]  
专题上海应用物理研究所_中科院上海原子核所2003年前
推荐引用方式
GB/T 7714
王震遐,章骥平,潘冀生,等. B掺杂对Ni原子溅射产额的影响[J]. 物理学报,1991(10).
APA 王震遐.,章骥平.,潘冀生.,陶振兰.,张慧明.,...&卢兆伦.(1991).B掺杂对Ni原子溅射产额的影响.物理学报(10).
MLA 王震遐,et al."B掺杂对Ni原子溅射产额的影响".物理学报 .10(1991).
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