| 氢键桥联双核铜配合物磁耦合的密度泛函研究 | |
| 孙友敏; 王若曦; 刘成卜 | |
| 刊名 | 高等学校化学学报
 |
| 2005 | |
| 卷号 | 26期号:2页码:294-298 |
| 关键词 | 对称性破损方法 密度泛函理论 氢键桥联铜二聚体 磁-结构关联 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6307536 |
| 专题 | 山东大学 |
| 作者单位 | 1.山东大学理论化学研究所, 济南, 山东 250100, 中国. 2.山东大学理论化学研究所, 济南, 山东 250100, 中国. 3.山东大学理论化学研究所, 济 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙友敏,王若曦,刘成卜. 氢键桥联双核铜配合物磁耦合的密度泛函研究[J]. 高等学校化学学报,2005,26(2):294-298. |
| APA | 孙友敏,王若曦,&刘成卜.(2005).氢键桥联双核铜配合物磁耦合的密度泛函研究.高等学校化学学报,26(2),294-298. |
| MLA | 孙友敏,et al."氢键桥联双核铜配合物磁耦合的密度泛函研究".高等学校化学学报 26.2(2005):294-298. |
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