Ni纳米线的化学还原法可控制备 | |
张家奇; 刘春萌; 刘圆; 赵重阳; 相文峰; 赵昆; 唐炼 | |
刊名 | 微纳电子技术
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2015 | |
页码 | 741-746 |
关键词 | Ni纳米线 化学还原法 Ni2+离子浓度 磁场强度 表面形貌 |
ISSN号 | 1671-4776 |
URL标识 | 查看原文 |
收录类别 | PKUISTIC |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6289571 |
专题 | 中国石油大学(北京) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张家奇,刘春萌,刘圆,等. Ni纳米线的化学还原法可控制备[J]. 微纳电子技术,2015:741-746. |
APA | 张家奇.,刘春萌.,刘圆.,赵重阳.,相文峰.,...&唐炼.(2015).Ni纳米线的化学还原法可控制备.微纳电子技术,741-746. |
MLA | 张家奇,et al."Ni纳米线的化学还原法可控制备".微纳电子技术 (2015):741-746. |
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