重离子导致的锗硅异质结双极晶体管单粒子效应电荷收集三维数值模拟

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	重离子导致的锗硅异质结双极晶体管单粒子效应电荷收集三维数值模拟
	张晋新; 郭红霞; 郭旗; 文林; 崔江维; 席善斌; 王信; 邓伟
刊名	物理学报
	2013
卷号	1.62 期号:4 页码:495-502
关键词	锗硅异质结双极晶体管单粒子效应电荷收集三维数值仿真
ISSN号	1000-3290
中文摘要	针对国产锗硅异质结双极晶体管(SiGeHBTs),采用半导体器件模拟工具,建立SiGeHBT单粒子效应三维损伤模型,研究影响SiGeHBT单粒子效应电荷收集的关键因素.分析比较重离子在不同位置入射器件时,各电极的电流变化和感生电荷收集情况,确定SiGeHBT电荷收集的敏感区域.结果表明,集电极/衬底结内及附近区域为集电极和衬底收集电荷的敏感区域,浅槽隔离内的区域为基极收集电荷的敏感区域,发射极收集的电荷可以忽略.此项工作的开展为下一步采用设计加固的方法提高器件的抗辐射性能打下了良好的基础.
英文摘要	In this paper, we establish a three-dimensional numerical simulation model for SiGe heterojunction bipolar transistor by the technology computer aided design simulations. In the simulation we investigate the charge collection mechanism by heavy ion radiation in SiGe HBT technology. The results show that the charge collected by the terminals is a strong function of the ion striking position. The sensitive area of charge collection for each terminal is identified based on the analyses of the device structure and simulation results. For a normal strike within and around the area of the collector/substrate junction, most of the electrons and holes are collected by the collector and substrate terminals, respectively. For an ion strike between the shallow trench edges surrounding the emitter, the base collects a large quantity of charge, while the emitter collects a negligible quantity of charge.
收录类别	SCI
资助信息	国家自然科学基金(批准号:61274106)资助的课题
公开日期	2013-04-30
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.xjipc.cas.cn/handle/365002/2416]
专题	新疆理化技术研究所_新疆维吾尔自治区电子信息材料与器件重点实验室新疆理化技术研究所_材料物理与化学研究室
作者单位	中国科学院新疆理化技术研究所；新疆电子信息材料与器件重点实验室；中国科学院大学；西北核技术研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	张晋新,郭红霞,郭旗,等. 重离子导致的锗硅异质结双极晶体管单粒子效应电荷收集三维数值模拟[J]. 物理学报,2013,1.62(4):495-502.
APA	张晋新.,郭红霞.,郭旗.,文林.,崔江维.,...&邓伟.(2013).重离子导致的锗硅异质结双极晶体管单粒子效应电荷收集三维数值模拟.物理学报,1.62(4),495-502.
MLA	张晋新,et al."重离子导致的锗硅异质结双极晶体管单粒子效应电荷收集三维数值模拟".物理学报 1.62.4(2013):495-502.