快速热处理中退火温度对Sol—gel法制备PZT铁电薄膜性能的影响 | |
胡绍璐; 赵海臣; 李林华; 任丽; 邓朝勇 | |
2014 | |
期号 | 3页码:16-18 |
关键词 | 退火温度 快速热处理(RTP) Sol—Gel法 铁电性能 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6237571 |
专题 | 贵州大学 |
作者单位 | 1.[1]贵州大学电子信息学 2.[2]贵州省电子功能复合材料特色重点实验室,贵州贵阳550025 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 胡绍璐,赵海臣,李林华,等. 快速热处理中退火温度对Sol—gel法制备PZT铁电薄膜性能的影响[J],2014(3):16-18. |
APA | 胡绍璐,赵海臣,李林华,任丽,&邓朝勇.(2014).快速热处理中退火温度对Sol—gel法制备PZT铁电薄膜性能的影响.(3),16-18. |
MLA | 胡绍璐,et al."快速热处理中退火温度对Sol—gel法制备PZT铁电薄膜性能的影响"..3(2014):16-18. |
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