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阴极弧电流对TiN及(TiTa)N薄膜结构和性能影响
刘燕燕; 白晓; 林国强; 张庆瑜
刊名大连理工大学学报
2002
卷号42页码:644-648
关键词微观结构 显微硬度/电弧离子镀 阴极弧电流 TiN薄膜 (TiTa)N薄膜
ISSN号1000-8608
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内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6216802
专题大连理工大学
作者单位大连理工大学,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024
推荐引用方式
GB/T 7714
刘燕燕,白晓,林国强,等. 阴极弧电流对TiN及(TiTa)N薄膜结构和性能影响[J]. 大连理工大学学报,2002,42:644-648.
APA 刘燕燕,白晓,林国强,&张庆瑜.(2002).阴极弧电流对TiN及(TiTa)N薄膜结构和性能影响.大连理工大学学报,42,644-648.
MLA 刘燕燕,et al."阴极弧电流对TiN及(TiTa)N薄膜结构和性能影响".大连理工大学学报 42(2002):644-648.
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