阴极弧电流对TiN及(TiTa)N薄膜结构和性能影响 | |
刘燕燕; 白晓; 林国强; 张庆瑜 | |
刊名 | 大连理工大学学报 |
2002 | |
卷号 | 42页码:644-648 |
关键词 | 微观结构 显微硬度/电弧离子镀 阴极弧电流 TiN薄膜 (TiTa)N薄膜 |
ISSN号 | 1000-8608 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6216802 |
专题 | 大连理工大学 |
作者单位 | 大连理工大学,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘燕燕,白晓,林国强,等. 阴极弧电流对TiN及(TiTa)N薄膜结构和性能影响[J]. 大连理工大学学报,2002,42:644-648. |
APA | 刘燕燕,白晓,林国强,&张庆瑜.(2002).阴极弧电流对TiN及(TiTa)N薄膜结构和性能影响.大连理工大学学报,42,644-648. |
MLA | 刘燕燕,et al."阴极弧电流对TiN及(TiTa)N薄膜结构和性能影响".大连理工大学学报 42(2002):644-648. |
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