| 真空离子精饰镀膜技术研究 | |
| 陈宝清; 董闯; 吕传花 | |
| 刊名 | 电镀与精饰
 |
| 2002 | |
| 卷号 | 24页码:17-19 |
| 关键词 | 离子掺金 高能级磁控溅射离子镀 等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀 |
| ISSN号 | 1001-3849 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6214964 |
| 专题 | 大连理工大学 |
| 作者单位 | 大连理工大学,材料工程系,辽宁,大连,116023 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈宝清,董闯,吕传花. 真空离子精饰镀膜技术研究[J]. 电镀与精饰,2002,24:17-19. |
| APA | 陈宝清,董闯,&吕传花.(2002).真空离子精饰镀膜技术研究.电镀与精饰,24,17-19. |
| MLA | 陈宝清,et al."真空离子精饰镀膜技术研究".电镀与精饰 24(2002):17-19. |
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