磷化铟基中红外波段量子级联激光器缓冲层及其制备方法
李爱珍 ; 陈建新 ; 徐刚毅 ; 张永刚
2005
获奖类别鉴定
获奖等级
中文摘要利用本专利方法生长的InP缓冲层,可以作为下波导包裹层,有效裁剪下波导层包裹层的折射率,实现了对激光器有效的光学限制和自由载流子限制;或作为量子级联激光器的高台面深度腐蚀的腐蚀终止层,防止中红外量子级联激光器有源区电流向衬底扩散,降低量子级联激光器的阈值电流密度;或作为来自衬底缺陷和外来杂质的吸收层,改善衬底和外延层界面质量。 本成果已应用于制备5-10微米中红外F-P腔和7.4-8.6微米DFB系列量子级联激光器材料和器件,获得优良品质,证明了该发明专利的可应用性。 本发明成果为国际上首先提出和采用In
语种中文
内容类型成果
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/113556]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_成果
推荐引用方式
GB/T 7714
李爱珍,陈建新,徐刚毅,等. 磷化铟基中红外波段量子级联激光器缓冲层及其制备方法. 鉴定:无. 2005.
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