透明陶瓷保护膜的研究 | |
陈宝清; 吕传花; 董闯; 黄龙 | |
刊名 | 真空 |
2004 | |
卷号 | 41页码:55-57 |
关键词 | 离子掺金镀 高能级磁控溅射离子镀 等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀 |
ISSN号 | 1002-0322 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6186870 |
专题 | 大连理工大学 |
作者单位 | 大连理工大学,材料工程系,辽宁,大连,116023 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈宝清,吕传花,董闯,等. 透明陶瓷保护膜的研究[J]. 真空,2004,41:55-57. |
APA | 陈宝清,吕传花,董闯,&黄龙.(2004).透明陶瓷保护膜的研究.真空,41,55-57. |
MLA | 陈宝清,et al."透明陶瓷保护膜的研究".真空 41(2004):55-57. |
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