A Design of Beam Shaping Unit for 193nm Lithography Illumination System Using Angular Spectrum Theory

	A Design of Beam Shaping Unit for 193nm Lithography Illumination System Using Angular Spectrum Theory
	Zhao Y. ; Gong Y. ; Li S. ; Zhang W.
	2010
会议日期	2010
会议录	Proceedings of SPIE
会议录出版者	Spie-Int Soc Optical Engineering
会议录出版地	Bellingham
语种	英语
ISBN号	0277-786X 978-0-81947-940-2
内容类型	会议论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/34621]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出_会议论文
推荐引用方式 GB/T 7714	Zhao Y.,Gong Y.,Li S.,et al. A Design of Beam Shaping Unit for 193nm Lithography Illumination System Using Angular Spectrum Theory[C]. 见:. 2010.