A Design of Beam Shaping Unit for 193nm Lithography Illumination System Using Angular Spectrum Theory | |
Zhao Y. ; Gong Y. ; Li S. ; Zhang W. | |
2010 | |
会议日期 | 2010 |
会议录 | Proceedings of SPIE
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会议录出版者 | Spie-Int Soc Optical Engineering |
会议录出版地 | Bellingham |
语种 | 英语 |
ISBN号 | 0277-786X 978-0-81947-940-2 |
内容类型 | 会议论文 |
源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/34621] ![]() |
专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出_会议论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhao Y.,Gong Y.,Li S.,et al. A Design of Beam Shaping Unit for 193nm Lithography Illumination System Using Angular Spectrum Theory[C]. 见:. 2010. |
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