高电子迁移率晶体管及其制作方法
潘钟
2001-12-12
专利类型发明
英文摘要Submitted by zhangdi (zhangdi@red.semi.ac.cn) on 2009-06-04T08:36:34Z No. of bitstreams: 1 dspace.cfg: 33388 bytes, checksum: ac9630d3fdb36a155287a049e8b34eb7 (MD5); Made available in DSpace on 2009-06-04T08:36:35Z (GMT). No. of bitstreams: 1 dspace.cfg: 33388 bytes, checksum: ac9630d3fdb36a155287a049e8b34eb7 (MD5) Previous issue date: 2008-08; Made available in DSpace on 2009-06-11T08:57:36Z (GMT). No. of bitstreams: 1 full/00109356.pdf: 523860 bytes, checksum: 0fd9b4d10cd48767225177a482fe95a4 (MD5) Previous issue date:
公开日期2009-06-04 ; 2009-06-11 ; 2010-10-15
申请日期2000-05-31
语种中文
专利申请号CN00109356.8
内容类型专利
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/3045]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
潘钟. 高电子迁移率晶体管及其制作方法. 2001-12-12.
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