陶瓷薄膜低温水溶液沉积评述

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	陶瓷薄膜低温水溶液沉积评述
	周金芳; 杨生荣; 杨生荣
刊名	材料科学与工程学报
	2008
卷号	26 期号:3 页码:479-484
关键词	陶瓷薄膜低温水溶液沉积生长机理 ceramic film low temperature deposition growth mechanism
ISSN号	1673-2812
通讯作者	杨生荣
中文摘要	【摘要】陶瓷薄膜的制备技术多种多样, 如物理气相沉积、化学气相沉积、高温烧结和“溶胶 - 凝胶” 法等。这些技术对制备条件都有较高的要求: 如高温高真空等。近年发展起来的在低温条件下沉积陶瓷薄膜的技术为我们提供了一种设备简单, 在接近室温、常压下可进行操作的方法。本文就这一新兴工艺及其机理进行了评述。
学科主题	材料科学与物理化学
收录类别	CSCD
资助信息	国家自然科学基金(50572107)资助项目
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:3308197
公开日期	2013-03-28
内容类型	期刊论文
源URL	[http://210.77.64.217/handle/362003/2730]
专题	兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室
通讯作者	杨生荣; 杨生荣
推荐引用方式 GB/T 7714	周金芳,杨生荣,杨生荣. 陶瓷薄膜低温水溶液沉积评述[J]. 材料科学与工程学报,2008,26(3):479-484.
APA	周金芳,杨生荣,&杨生荣.(2008).陶瓷薄膜低温水溶液沉积评述.材料科学与工程学报,26(3),479-484.
MLA	周金芳,et al."陶瓷薄膜低温水溶液沉积评述".材料科学与工程学报 26.3(2008):479-484.