| Electronic stopping powers of 80-350 keV F-19 ions in Ta, Nb, Ti refractory metals and Ni0.8Fe0.2 alloy | |
| Tan, CY; Xia, YY; Liu, JT; Liu, XD; Wang, FX | |
| 1996 | |
| 会议名称 | 9th International Conference on Ion Beam Modification of Materials (IBMM 95) |
| 会议日期 | FEB 05-10, 1995 |
| 页码 | 671-674 |
| 收录类别 | CPCI-S |
| 会议录 | ION BEAM MODIFICATION OF MATERIALS
 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 会议论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6090419 |
| 专题 | 山东大学 |
| 作者单位 | SHANDONG UNIV,DEPT PHYS,JINAN 250100,PEOPLES R CHINA. |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Tan, CY,Xia, YY,Liu, JT,et al. Electronic stopping powers of 80-350 keV F-19 ions in Ta, Nb, Ti refractory metals and Ni0.8Fe0.2 alloy[C]. 见:9th International Conference on Ion Beam Modification of Materials (IBMM 95). FEB 05-10, 1995. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论