| PECVD法生长SiO_2薄膜工艺优化 | |
| 宋平; 连洁; 高尚; 李萍; 王晓; 吴仕梁; 马峥 | |
| 2010 | |
| 会议名称 | 中国光学学会2010年光学大会 |
| 关键词 | 薄膜 SiO2薄膜生长工艺优化 PECVD 椭偏仪 SiO2薄膜沉积速率 折射率 |
| 会议录 | 中国光学学会2010年光学大会论文集
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| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 会议论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6065055 |
| 专题 | 山东大学 |
| 作者单位 | 山东大学信息科学与工程学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宋平,连洁,高尚,等. PECVD法生长SiO_2薄膜工艺优化[C]. 见:中国光学学会2010年光学大会. |
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