CORC  > 山东大学
衬底温度对PECVD法生长SiO2薄膜性能影响的研究
高尚; 连洁; 宋平; 马铮; 王晓; 吴仕梁
2010
会议名称中国光学学会2010年光学大会
关键词等离子增强型化学沉积 二氧化硅薄膜 椭偏测量 X射线光电子能谱
会议录中国光学学会2010年光学大会论文集
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内容类型会议论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6065003
专题山东大学
作者单位山东大学信息科学与工程学院光电工程系
推荐引用方式
GB/T 7714
高尚,连洁,宋平,等. 衬底温度对PECVD法生长SiO2薄膜性能影响的研究[C]. 见:中国光学学会2010年光学大会.
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