| 激光预热基片化学气相沉积硅薄膜 | |
| 陈万湘[1]; 王入更[2]; 薛春银[3]; 王玉琪[4] | |
| 刊名 | 中国激光
 |
| 1983 | |
| 期号 | 12页码:858-859 |
| 关键词 | 硅薄膜 反应室 化学气相沉积 横模 充气系统 硅原子 开卜 吹制 口刁 单色光源 |
| ISSN号 | 0258-7025 |
| URL标识 | 查看原文 |
| WOS记录号 | WOS: |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6022439 |
| 专题 | 河北大学 |
| 作者单位 | [1]河北大学物理系[2]河北大学物理系[3]河北大学物理系[4]河北大学物理系 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈万湘[1],王入更[2],薛春银[3],等. 激光预热基片化学气相沉积硅薄膜[J]. 中国激光,1983(12):858-859. |
| APA | 陈万湘[1],王入更[2],薛春银[3],&王玉琪[4].(1983).激光预热基片化学气相沉积硅薄膜.中国激光(12),858-859. |
| MLA | 陈万湘[1],et al."激光预热基片化学气相沉积硅薄膜".中国激光 .12(1983):858-859. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论