激光用于半导体工艺的研究进展 | |
彭英才[1]; 王英民[2]; 李星文[3] | |
刊名 | 稀有金属 |
1988 | |
期号 | 02页码:136-145 |
关键词 | 半导体工艺 激光化学 半导体器件 激光诱导 表面化学反应 薄膜制备 吸附物 反应室 激光束聚焦 导体膜 |
ISSN号 | 0258-7076 |
URL标识 | 查看原文 |
WOS记录号 | WOS: |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/6021475 |
专题 | 河北大学 |
作者单位 | [1]河北大学[2]河北大学[3]河北大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 彭英才[1],王英民[2],李星文[3]. 激光用于半导体工艺的研究进展[J]. 稀有金属,1988(02):136-145. |
APA | 彭英才[1],王英民[2],&李星文[3].(1988).激光用于半导体工艺的研究进展.稀有金属(02),136-145. |
MLA | 彭英才[1],et al."激光用于半导体工艺的研究进展".稀有金属 .02(1988):136-145. |
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