同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚

	同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚
	巩岩 ; 陈波 ; 尼启良 ; 崔明启 ; 赵屹东 ; 吴忠华
刊名	高能物理与核物理
	2005-11-21
期号	11 页码:82-84
关键词	同步辐射光源掠出射 X射线荧光薄膜
公开日期	2013-03-11
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28588]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	巩岩,陈波,尼启良,等. 同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚[J]. 高能物理与核物理,2005(11):82-84.
APA	巩岩,陈波,尼启良,崔明启,赵屹东,&吴忠华.(2005).同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚.高能物理与核物理(11),82-84.
MLA	巩岩,et al."同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚".高能物理与核物理 .11(2005):82-84.