| 碳化硅薄膜脉冲激光晶化特性研究 | |
| Yu, W[1]; He, J[2]; Sun, YT[3]; Zhu, HF[4]; Han, L[5]; Fu, GS[6] | |
| 刊名 | 物理学报
 |
| 2004 | |
| 卷号 | 53期号:6页码:1930-1934 |
| 关键词 | 激光退火 晶化 碳化硅 |
| ISSN号 | 1000-3290 |
| DOI | http://dx.doi.org/10.3321/j.issn:1000-3290.2004.06.058 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 收录类别 | SCI(E) ; 中文核心期刊要目总览CSCD |
| WOS记录号 | WOS:000221946200058 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5997670 |
| 专题 | 河北大学 |
| 作者单位 | 河北大学物理科学与技术学院,保定,071002 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Yu, W[1],He, J[2],Sun, YT[3],等. 碳化硅薄膜脉冲激光晶化特性研究[J]. 物理学报,2004,53(6):1930-1934. |
| APA | Yu, W[1],He, J[2],Sun, YT[3],Zhu, HF[4],Han, L[5],&Fu, GS[6].(2004).碳化硅薄膜脉冲激光晶化特性研究.物理学报,53(6),1930-1934. |
| MLA | Yu, W[1],et al."碳化硅薄膜脉冲激光晶化特性研究".物理学报 53.6(2004):1930-1934. |
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