| 具有窄光致发光谱的纳米Si晶薄膜的激光烧蚀制备 | |
| 王英龙[1]; 卢丽芳[2]; 闫常瑜[3]; 褚立志[4]; 周阳[5]; 傅广生[6]; 彭英才[7] | |
| 刊名 | 物理学报
 |
| 2005 | |
| 期号 | 12页码:228-232 |
| 关键词 | 纳米Si晶粒 脉冲激光烧蚀 薄膜形貌 光致发光 |
| ISSN号 | 1000-3290 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 收录类别 | 中文核心期刊要目总览 |
| WOS记录号 | WOS: |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5993994 |
| 专题 | 河北大学 |
| 作者单位 | 1.河北大学物理科学与技术学院 2.河北大学电子信息工程学院 保定071002 3.保定071002 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王英龙[1],卢丽芳[2],闫常瑜[3],等. 具有窄光致发光谱的纳米Si晶薄膜的激光烧蚀制备[J]. 物理学报,2005(12):228-232. |
| APA | 王英龙[1].,卢丽芳[2].,闫常瑜[3].,褚立志[4].,周阳[5].,...&彭英才[7].(2005).具有窄光致发光谱的纳米Si晶薄膜的激光烧蚀制备.物理学报(12),228-232. |
| MLA | 王英龙[1],et al."具有窄光致发光谱的纳米Si晶薄膜的激光烧蚀制备".物理学报 .12(2005):228-232. |
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