| 利用脉冲激光沉积技术在双轴织构的Ni基带上外延CeO2薄膜 | |
| Liu, Z[1]; Wang, SF[2]; Zhao, SQ[3]; Zhou, YL[4] | |
| 刊名 | 物理学报
 |
| 2005 | |
| 卷号 | 54期号:12页码:5820-5823 |
| 关键词 | 双轴织构的Ni基带 CeO2薄膜 脉冲激光沉积 |
| ISSN号 | 1000-3290 |
| DOI | http://dx.doi.org/10.3321/j.issn:1000-3290.2005.12.054 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 收录类别 | SCI(E) ; 中文核心期刊要目总览CSCD |
| WOS记录号 | WOS:000234259300054 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5990812 |
| 专题 | 河北大学 |
| 作者单位 | 1.中国科学院物理研究所,北京,100080 2.河北大学物理科学与技术学院,保定,071002 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Liu, Z[1],Wang, SF[2],Zhao, SQ[3],等. 利用脉冲激光沉积技术在双轴织构的Ni基带上外延CeO2薄膜[J]. 物理学报,2005,54(12):5820-5823. |
| APA | Liu, Z[1],Wang, SF[2],Zhao, SQ[3],&Zhou, YL[4].(2005).利用脉冲激光沉积技术在双轴织构的Ni基带上外延CeO2薄膜.物理学报,54(12),5820-5823. |
| MLA | Liu, Z[1],et al."利用脉冲激光沉积技术在双轴织构的Ni基带上外延CeO2薄膜".物理学报 54.12(2005):5820-5823. |
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