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	Epitaxial growth of ZnO films by helicon-wave-plasma-assisted sputtering
	Fu, GS[1]; Xu, HJ[2]; Wang, SF[3]; Yu, W[4]; Sun, W[5]; Han, L[6]
刊名	PHYSICA B-CONDENSED MATTER
	2006
卷号	382期号:1-2页码:17-20
关键词	ZnO films epitaxy Helicon wave plasma sputtering
ISSN号	0921-4526
DOI	http://dx.doi.org/10.1016/j.physb.2006.01.535
URL标识	查看原文
收录类别	SCI(E)
WOS记录号	WOS:000238780100004
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5983054
专题	河北大学
作者单位	Hebei Univ, Coll Phys Sci & Technol, Baoding 071002, Peoples R China.
推荐引用方式 GB/T 7714	Fu, GS[1],Xu, HJ[2],Wang, SF[3],et al. Epitaxial growth of ZnO films by helicon-wave-plasma-assisted sputtering[J]. PHYSICA B-CONDENSED MATTER,2006,382(1-2):17-20.
APA	Fu, GS[1],Xu, HJ[2],Wang, SF[3],Yu, W[4],Sun, W[5],&Han, L[6].(2006).Epitaxial growth of ZnO films by helicon-wave-plasma-assisted sputtering.PHYSICA B-CONDENSED MATTER,382(1-2),17-20.
MLA	Fu, GS[1],et al."Epitaxial growth of ZnO films by helicon-wave-plasma-assisted sputtering".PHYSICA B-CONDENSED MATTER 382.1-2(2006):17-20.

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