激光烧蚀制备纳米Si晶粒尺寸均匀性与靶衬间距的关系 | |
金成[1]; 王文军[2]; 冯秀娟[3]; 王英龙[4] | |
刊名 | 华北电力大学学报 |
2006 | |
卷号 | 33期号:2页码:109-111 |
关键词 | 纳米Si晶粒 脉冲激光烧蚀沉积 靶衬间距 尺寸分布 |
ISSN号 | 1007-2691 |
DOI | http://dx.doi.org/10.3969/j.issn.1007-2691.2006.02.027 |
URL标识 | 查看原文 |
收录类别 | 中文核心期刊要目总览 |
WOS记录号 | WOS: |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5981332 |
专题 | 河北大学 |
作者单位 | 1.[1]河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002 2.保定师范专科学校物理系,河北,保定,071000[2]保定师范专科学校物理系,河北,保定,071000[3]河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002[4]河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 金成[1],王文军[2],冯秀娟[3],等. 激光烧蚀制备纳米Si晶粒尺寸均匀性与靶衬间距的关系[J]. 华北电力大学学报,2006,33(2):109-111. |
APA | 金成[1],王文军[2],冯秀娟[3],&王英龙[4].(2006).激光烧蚀制备纳米Si晶粒尺寸均匀性与靶衬间距的关系.华北电力大学学报,33(2),109-111. |
MLA | 金成[1],et al."激光烧蚀制备纳米Si晶粒尺寸均匀性与靶衬间距的关系".华北电力大学学报 33.2(2006):109-111. |
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