| 表面修饰模式对Nafion离子选择性影响及在VRFB中的应用（英文） | |
| 谭青龙; 王海宁; 卢善富; 梁大为; 武春晓; 相艳 | |
| 刊名 | 电化学
 |
| 2017 | |
| 卷号 | 1页码:409-419 |
| 关键词 | 表面修饰模式 钒离子渗透率 离子选择性 全钒液流电池 |
| ISSN号 | 1006-3471 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 收录类别 | SCIE |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5946317 |
| 专题 | 北京航空航天大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 谭青龙,王海宁,卢善富,等. 表面修饰模式对Nafion离子选择性影响及在VRFB中的应用（英文）[J]. 电化学,2017,1:409-419. |
| APA | 谭青龙,王海宁,卢善富,梁大为,武春晓,&相艳.(2017).表面修饰模式对Nafion离子选择性影响及在VRFB中的应用（英文）.电化学,1,409-419. |
| MLA | 谭青龙,et al."表面修饰模式对Nafion离子选择性影响及在VRFB中的应用（英文）".电化学 1(2017):409-419. |
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