低能Ar+、Xe+轰击SiO2的溅射模型 | |
张建华; 夏勇; 丁利; 商圣飞 | |
刊名 | 北京航空航天大学学报
![]() |
2017 | |
卷号 | 43页码:1766-1772 |
关键词 | 氩离子 氙离子 二氧化硅 溅射 改进 |
ISSN号 | 1001-5965 |
DOI | 10.13700/j.bh.1001-5965.2016.0744 |
URL标识 | 查看原文 |
收录类别 | EI ; CSCD |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5938041 |
专题 | 北京航空航天大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张建华,夏勇,丁利,等. 低能Ar+、Xe+轰击SiO2的溅射模型[J]. 北京航空航天大学学报,2017,43:1766-1772. |
APA | 张建华,夏勇,丁利,&商圣飞.(2017).低能Ar+、Xe+轰击SiO2的溅射模型.北京航空航天大学学报,43,1766-1772. |
MLA | 张建华,et al."低能Ar+、Xe+轰击SiO2的溅射模型".北京航空航天大学学报 43(2017):1766-1772. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论