| 磁场位向对Fe-Si复合电沉积镀层硅含量及形貌的影响 | |
| 龙琼; 路坊海; 胡素丽; 周登凤; 钟云波 | |
| 2017 | |
| 卷号 | 48期号:2页码:6-11 |
| 关键词 | 磁场 复合电沉积 Fe-Si颗粒 MHD效应 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5840008 |
| 专题 | 贵州理工学院 |
| 作者单位 | 1.[1]贵州理工学院材料与冶金工程学院,贵州省特种功能材料协同创新中心,贵州贵阳550003 2.[2]上海大学现代冶金与材料制备上海市重点实验室,上海200072 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 龙琼,路坊海,胡素丽,等. 磁场位向对Fe-Si复合电沉积镀层硅含量及形貌的影响[J],2017,48(2):6-11. |
| APA | 龙琼,路坊海,胡素丽,周登凤,&钟云波.(2017).磁场位向对Fe-Si复合电沉积镀层硅含量及形貌的影响.,48(2),6-11. |
| MLA | 龙琼,et al."磁场位向对Fe-Si复合电沉积镀层硅含量及形貌的影响".48.2(2017):6-11. |
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