| 硅橡胶绝缘子粉化层憎水性变化的研究 | |
| 杨滴; 周凯; 刘燕; 张均 | |
| 2019 | |
| 卷号 | 0期号:4页码:19-22 |
| 关键词 | 硅橡胶绝缘子 粉化层 憎水性 红外光谱 扫描电镜 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5839249 |
| 专题 | 贵州理工学院 |
| 作者单位 | 1.[1]贵州理工学院电气与信息工程学院,贵州贵阳550003 2.[2]四川大学电气信息学院,四川成都610065 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杨滴,周凯,刘燕,等. 硅橡胶绝缘子粉化层憎水性变化的研究[J],2019,0(4):19-22. |
| APA | 杨滴,周凯,刘燕,&张均.(2019).硅橡胶绝缘子粉化层憎水性变化的研究.,0(4),19-22. |
| MLA | 杨滴,et al."硅橡胶绝缘子粉化层憎水性变化的研究".0.4(2019):19-22. |
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