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	Ga近硅表面连续低浓度分布特性分析
	裴素华 [1]; 修显武 [2]; 孙海波 [3]; 黄萍 [1]; 于连英 [1]
	2005
卷号	34期号:4页码:565-568
关键词	Ga 近硅表面 浓度分布
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5800219
专题	山东师范大学
作者单位	1.[1]山东师范大学,山东,济南,250014 2.[2]山东大学,山东,济南,250010 3.[3]山东交通学院,山东,济南,250013
推荐引用方式 GB/T 7714	裴素华 [1],修显武 [2],孙海波 [3],等. Ga近硅表面连续低浓度分布特性分析[J],2005,34(4):565-568.
APA	裴素华 [1],修显武 [2],孙海波 [3],黄萍 [1],&于连英 [1].(2005).Ga近硅表面连续低浓度分布特性分析.,34(4),565-568.
MLA	裴素华 [1],et al."Ga近硅表面连续低浓度分布特性分析".34.4(2005):565-568.

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