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	方波脉冲电沉积氧化锌薄膜的研究
	李怀祥[1]; 赵婧[1]; 王瑞华[1]
	2005
卷号	20期号:2页码:48-50
关键词	多孔硅 氧化锌膜 阴极电沉积 光致发光
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5784768
专题	山东师范大学
作者单位	[1]山东师范大学化学化工与材料科学学院,250014,济南
推荐引用方式 GB/T 7714	李怀祥[1],赵婧[1],王瑞华[1]. 方波脉冲电沉积氧化锌薄膜的研究[J],2005,20(2):48-50.
APA	李怀祥[1],赵婧[1],&王瑞华[1].(2005).方波脉冲电沉积氧化锌薄膜的研究.,20(2),48-50.
MLA	李怀祥[1],et al."方波脉冲电沉积氧化锌薄膜的研究".20.2(2005):48-50.

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