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	Microstructure of microwave dielectricthin films by RF magnetron sputteringSCI被引量：SCI原文链接
	Shi, Feng[1,2]; Cui, Chuanwen[1,2]
	2010
卷号	256期号:8页码:2626-2629
URL标识	查看原文
WOS记录号	WOS:000273670700056
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5779706
专题	山东师范大学
作者单位	1.[1]Shandong Normal Univ, Coll Phys & Elect, Jinan 250014, Peoples R China 2.[2]Shandong Univ, State Key Lab Crystal Mat, Jinan 250100, Peoples R China
推荐引用方式 GB/T 7714	Shi, Feng[1,2],Cui, Chuanwen[1,2]. Microstructure of microwave dielectricthin films by RF magnetron sputteringSCI被引量：SCI原文链接[J],2010,256(8):2626-2629.
APA	Shi, Feng[1,2],&Cui, Chuanwen[1,2].(2010).Microstructure of microwave dielectricthin films by RF magnetron sputteringSCI被引量：SCI原文链接.,256(8),2626-2629.
MLA	Shi, Feng[1,2],et al."Microstructure of microwave dielectricthin films by RF magnetron sputteringSCI被引量：SCI原文链接".256.8(2010):2626-2629.

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