薄膜厚度对ZnO:Ga透明导电膜性能的影响 | |
余旭浒 [1]; 马瑾 [1]; 计峰 [1]; 王玉恒 [1]; 张锡健 [1]; 程传福 [2]; 马洪磊 [1] | |
2005 | |
卷号 | 36期号:2页码:241-243 |
关键词 | 磁控溅射 ZnO:Ga 薄膜厚度 光电性质 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5776877 |
专题 | 山东师范大学 |
作者单位 | 1.[1]山东大学,物理与微电子学院,山东,济南,250100 2.[2]山东师范大学,物理系,山东,济南,250014 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 余旭浒 [1],马瑾 [1],计峰 [1],等. 薄膜厚度对ZnO:Ga透明导电膜性能的影响[J],2005,36(2):241-243. |
APA | 余旭浒 [1].,马瑾 [1].,计峰 [1].,王玉恒 [1].,张锡健 [1].,...&马洪磊 [1].(2005).薄膜厚度对ZnO:Ga透明导电膜性能的影响.,36(2),241-243. |
MLA | 余旭浒 [1],et al."薄膜厚度对ZnO:Ga透明导电膜性能的影响".36.2(2005):241-243. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论