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	F原子与Si表面相互作用的动力学研究
	赵成利; 邓朝勇; 孙伟中; 吕晓丹; 陈峰; 贺平逆; 张浚源; 刘玉杰; 苟富均
	2012
卷号	32期号:1页码:53-58
关键词	分子动力学 沉积 刻蚀 Si-F反应层
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5758473
专题	贵州大学
作者单位	1.[1]贵州大学PSI研究所MEMS课题组,贵阳550025 2.[2]贵州大学理学院,贵阳550025 3.[3]四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室,成都610064 4.[4]荷兰皇家科学院等离子体所,荷兰2300
推荐引用方式 GB/T 7714	赵成利,邓朝勇,孙伟中,等. F原子与Si表面相互作用的动力学研究[J],2012,32(1):53-58.
APA	赵成利.,邓朝勇.,孙伟中.,吕晓丹.,陈峰.,...&苟富均.(2012).F原子与Si表面相互作用的动力学研究.,32(1),53-58.
MLA	赵成利,et al."F原子与Si表面相互作用的动力学研究".32.1(2012):53-58.

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