| 题名 | 在升级冶金级硅衬底上用ECR-PECVD沉积多晶硅薄膜 |
| 作者 | 崔洪涛 |
| 答辩日期 | 2007 |
| 授予单位 | 大连理工大学 |
| 关键词 | ECR-PECVD沉积 多晶硅薄膜 硅衬底 薄膜电池 太阳能电池 |
| 学位名称 | 硕士 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 出处 | 大连理工大学 |
| 内容类型 | 学位论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5675930 |
| 专题 | 大连理工大学 |
| 作者单位 | 大连理工大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 崔洪涛. 在升级冶金级硅衬底上用ECR-PECVD沉积多晶硅薄膜[D]. 大连理工大学. 2007. |
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