射频反应磁控溅射法在高速钢基底上制备SiO_2薄膜(英文) | |
曾其勇; 周娟; 徐军; 邓新禄 | |
2007 | |
会议名称 | 第八届真空冶金与表面工程学术会议 |
会议日期 | 2007-06-01 |
会议地点 | 中国辽宁沈阳 |
关键词 | SiO2薄膜 射频磁控溅射 原子力显微镜(AFM) X射线光电子能谱仪(XPS) |
页码 | 8 |
会议录 | 第八届真空冶金与表面工程学术会议
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URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 会议论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5618019 |
专题 | 大连理工大学 |
作者单位 | 1.中国计量学院机电工程学院 2.大连理工大学物理系三束国家重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 曾其勇,周娟,徐军,等. 射频反应磁控溅射法在高速钢基底上制备SiO_2薄膜(英文)[C]. 见:第八届真空冶金与表面工程学术会议. 中国辽宁沈阳. 2007-06-01. |
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