CORC  > 大连理工大学
射频反应磁控溅射法在高速钢基底上制备SiO_2薄膜
曾其勇; 周娟; 徐军; 邓新禄
2007
会议名称第八届全国真空冶金与表面工程学术会议
会议日期2007-06-01
会议地点中国辽宁沈阳
关键词SiO2薄膜 射频磁控溅射 原子力显微镜(AFM) X射线光电子能谱仪(XPS)
页码1
会议录第八届全国真空冶金与表面工程学术会议
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内容类型会议论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5618013
专题大连理工大学
作者单位1.中国计量学院,机电工程学院
2.大连理工大学,物理系,三束国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
曾其勇,周娟,徐军,等. 射频反应磁控溅射法在高速钢基底上制备SiO_2薄膜[C]. 见:第八届全国真空冶金与表面工程学术会议. 中国辽宁沈阳. 2007-06-01.
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